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低能Cu13团簇沉积薄膜的分子动力学模拟研究

张世旭 刘惠伟 贺亦文 张梅玲 李公平

张世旭, 刘惠伟, 贺亦文, 张梅玲, 李公平. 低能Cu13团簇沉积薄膜的分子动力学模拟研究[J]. 原子核物理评论, 2019, 36(2): 235-241. doi: 10.11804/NuclPhysRev.36.02.235
引用本文: 张世旭, 刘惠伟, 贺亦文, 张梅玲, 李公平. 低能Cu13团簇沉积薄膜的分子动力学模拟研究[J]. 原子核物理评论, 2019, 36(2): 235-241. doi: 10.11804/NuclPhysRev.36.02.235
ZHANG Shixu, LIU Huiwei, HE Yiwen, ZHANG Meiling, LI Gongping. Molecular Dynamics Simulation Study on the Film Formation by Low Energy Cu13 Clusters Deposition[J]. Nuclear Physics Review, 2019, 36(2): 235-241. doi: 10.11804/NuclPhysRev.36.02.235
Citation: ZHANG Shixu, LIU Huiwei, HE Yiwen, ZHANG Meiling, LI Gongping. Molecular Dynamics Simulation Study on the Film Formation by Low Energy Cu13 Clusters Deposition[J]. Nuclear Physics Review, 2019, 36(2): 235-241. doi: 10.11804/NuclPhysRev.36.02.235

低能Cu13团簇沉积薄膜的分子动力学模拟研究

doi: 10.11804/NuclPhysRev.36.02.235
基金项目: 国家自然科学基金资助项目(11604129);兰州大学中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(lzujbky-2015-67,lzujbky-2019-56)
详细信息
    作者简介:

    张世旭(1984-),男,内蒙古呼伦贝尔人,副教授,博士,从事射线与物质相互作用研究;E-mail:zhangshixu@lzu.edu.cn

    通讯作者: 李公平,E-mail:ligp@lzu.edu.cn
  • 中图分类号: O484.1

Molecular Dynamics Simulation Study on the Film Formation by Low Energy Cu13 Clusters Deposition

Funds: National Natural Science Foundation of China (11604129); Fundamental Research Funds for Central Universities (lzujbky-2015-67, lzujbky-2019-56)
  • 摘要: 利用分子动力学模拟方法对Cu13团簇在Fe(001)表面上沉积薄膜进行了研究,分析了不同沉积条件对薄膜生长模式的影响,对比分析了不同沉积条件下表面粗糙度、缺陷分布和外延度等薄膜性质的差异。Cu13团簇的初始沉积能量范围为0.1~10.0 eV/atom,沉积率为1.0 clusters/ps,衬底温度分别为300,700和1 000 K。模拟结果表明:团簇初始沉积能量主要影响薄膜生长模式,当初始沉积能量为7.5 eV/atom的Cu13团簇沉积到温度为300 K的Fe(001)表面时,可形成表面光滑、内部缺陷少和较好外延度的高质量Cu薄膜。
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出版历程
  • 收稿日期:  2018-09-15
  • 修回日期:  2019-01-24
  • 刊出日期:  2019-06-20

低能Cu13团簇沉积薄膜的分子动力学模拟研究

doi: 10.11804/NuclPhysRev.36.02.235
    基金项目:  国家自然科学基金资助项目(11604129);兰州大学中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(lzujbky-2015-67,lzujbky-2019-56)
    作者简介:

    张世旭(1984-),男,内蒙古呼伦贝尔人,副教授,博士,从事射线与物质相互作用研究;E-mail:zhangshixu@lzu.edu.cn

    通讯作者: 李公平,E-mail:ligp@lzu.edu.cn
  • 中图分类号: O484.1

摘要: 利用分子动力学模拟方法对Cu13团簇在Fe(001)表面上沉积薄膜进行了研究,分析了不同沉积条件对薄膜生长模式的影响,对比分析了不同沉积条件下表面粗糙度、缺陷分布和外延度等薄膜性质的差异。Cu13团簇的初始沉积能量范围为0.1~10.0 eV/atom,沉积率为1.0 clusters/ps,衬底温度分别为300,700和1 000 K。模拟结果表明:团簇初始沉积能量主要影响薄膜生长模式,当初始沉积能量为7.5 eV/atom的Cu13团簇沉积到温度为300 K的Fe(001)表面时,可形成表面光滑、内部缺陷少和较好外延度的高质量Cu薄膜。

English Abstract

张世旭, 刘惠伟, 贺亦文, 张梅玲, 李公平. 低能Cu13团簇沉积薄膜的分子动力学模拟研究[J]. 原子核物理评论, 2019, 36(2): 235-241. doi: 10.11804/NuclPhysRev.36.02.235
引用本文: 张世旭, 刘惠伟, 贺亦文, 张梅玲, 李公平. 低能Cu13团簇沉积薄膜的分子动力学模拟研究[J]. 原子核物理评论, 2019, 36(2): 235-241. doi: 10.11804/NuclPhysRev.36.02.235
ZHANG Shixu, LIU Huiwei, HE Yiwen, ZHANG Meiling, LI Gongping. Molecular Dynamics Simulation Study on the Film Formation by Low Energy Cu13 Clusters Deposition[J]. Nuclear Physics Review, 2019, 36(2): 235-241. doi: 10.11804/NuclPhysRev.36.02.235
Citation: ZHANG Shixu, LIU Huiwei, HE Yiwen, ZHANG Meiling, LI Gongping. Molecular Dynamics Simulation Study on the Film Formation by Low Energy Cu13 Clusters Deposition[J]. Nuclear Physics Review, 2019, 36(2): 235-241. doi: 10.11804/NuclPhysRev.36.02.235
参考文献 (35)

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